개념

하이디스 R&D 센터는 액정 불량률을 줄이기 위해 이온 빔(ion beam) 배향 방식을 연구하고 있습니다.
기존 액정 배향 방식은 배향막을 직접 접촉하는 Rubbing 방식을 이용하므로 오염, 정전기 등으로 인한 불량률이 높았습니다. 하지만 이온빔을 이용하면 배향막에 직접 접촉하지 않고 액정을 배향하는 것이 가능해지므로
정전기와 액정 불량률을 줄일 수 있으며, 액정을 더욱 정밀하게 배향할 수 있습니다.


주요장점

불량없는 디스플레이
고화질


기술활용분야

모든 어플리케이션에 적용 가능


구조